历经波折 上海新阳终于收到ASML-1400光刻机：研发193nm光刻胶

对加快193nm ArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响，后续将进行安装调试等相关工作，该光刻机将于2020年底前运抵国内，上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告，由于上海新阳与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心(毕竟)有限公司在沟通协调设备运输与安装等细节方面遇到波折，仍需一定时间， 不过，提高公司抗风险能力和可持续发展能力，预计该光刻机将于2021年3月底前进入北方集成电路现